Описание:

Пропускная способность установки позволяет обрабатывать 1200 подложек размером до 8” за час. Обрабатываемые подложки могут быть как гибкими, так и жесткими. Основная область применения – производство сенсорных экранов, солнечных батарей и светодиодов. Установка SOLARIS S151 предлагает следующий комплекс процессов: магнетронное напыление, нагрев, отжиг, травление, «flash» - распыление (частицы распыляемого вещества дозировано подаются на сильно разогретую поверхность и испаряются мгновенно)

 

 

 

 

 

 

Основные возможности:

• Гибкая конфигурация – каждая процессная камера отделена от соседних
• Модульная конструкция подложкодержателя позволяет быстро переоснащать систему под подложки различных типоразмеров
• Возможность магнетронного напыления до 4-х материалов одновременно
• Высокая пропускная способность – до 1200 подложек 8” в час
• Равномерность слоя до ±2% за счет вращения подложек во время процесса
• Максимальная область покрытия во время процесса – окружность диаметром 225 мм
• Отжиг при температуре до 550°С
• Чистка и активация поверхности с помощью травления
• Простая интеграция в производственный процесс
• Быстрая замена мишеней и защитных экранов
• ПО с дружественным интерфейсом, позволяющее пошагово отслеживать и создавать процесс от откачки до напуска