Система контроля шаблонов Applied Aera4 представляет собой уникальное контрольно-проверочное оборудование четвёртого поколения для контроля 193-нм в сочетании с возможностью реальной съёмки с ультрасовременной визуализацией и высоким разрешением.

Оснащенная новым литографическим объективом, система Aera4 обладает высоким соотношением сигнал-шум как для стандартного применения с высоким разрешением, так и для съемки, что делает её подходящей для работы с узлами с 1-нм технологией и для контроля масок на раннем этапе экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). Система выполняет высокочувствительный контроль шаблонов с минимальной возможностью ложных срабатываний, как и требуется при литографии с двойным и четырехкратным формированием.

Предназначенная для сканирования, система Aera4 обеспечивает более успешное выполнение первичного контроля на новейших шаблонах, в том числе с улучшенной коррекцией эффекта оптической близости, такой как обратная литография, по сравнению с другими системами контроля высокого разрешения. Благодаря возможности системы по автоматической классификации дефектов печати / не печати, появляется возможность расширять технологию ArF до применения в узлах следующего поколения.

При использовании на предприятиях, специализирующихся на выпуске интегральных схем, система Aera4 позволяет расширить процесс контроля шаблонов с раннего обнаружения помутнений для завершения контроля деградации 193-нм. Кроме того, технология IntenCD ™ позволяет обеспечить в ходе процесса контроля полномасштабное отображение критических допусков на размер элементов всего шаблона. Благодаря этим возможностям система способствует увеличению срока службы шаблона и позволяет снизить затраты.