Centris AdvantEdge Mesa - это самая совершенная система травления кремния от Applied, обеспечивающая точность, интеллектуальное управление и производительность, необходимые для успешной разработки передовых логических и микросхем памяти 22-нм и менее. Благодаря лидирующим позициям Applied's AdvantEdge Mesa, система Centris может создавать наноразмерные схемы с равномерностью на уровне ангстрема на каждой пластине. Эта возможность необходима для достижения высокой производительности при объемном производстве чипов.

Новаторские платформы Applied Centris объединяют до восьми технологических камер - шесть травильных и две плазменные камеры очистки. Высокая скорость работы позволяет обрабатывать до 180 пластин в час, за счёт этого система почти в два раза быстрее аналогичных на рынке.

Разработанная для поддержки новых производственных инноваций производителей чипов, платформа Centris потребляет значительно меньше воды и энергии, чем другие, что позволяет экономить энергию, воду и газ и уменьшить расходы на 30 % по сравнению с другими доступными системами.

Установка Centris AdvantEdge Mesa предназначена для травления узкощелевой изоляции, битовых линий, числовых шин и структур микросхем с двойным рисунком. Лучшая в своем классе производительность системы обеспечивает 1% неравномерность глубины травления и суб-нанометровый критический допуск, помогая уменьшать размеры контуров, контролировать ток потерь и уменьшать производственные затраты, необходимые для создания более сложных структур кристаллов нового поколения.