Область применения:

Установка может применяться для средне и мелкосерийного производства, там где не требуется  сверхвысокой производительности. Гибкий инструментарий установки дает возможность использования ее и для R&D применений.

Техническая спецификация:

• Вакуумная камера
  • Из нержавеющей стали, с водяным охлаждением
  • Размер: 813 х 813 мм
  • Расстояние до источника: 727 мм
• Подложкодержатели
  • Планетарного типа (с тремя полусферами)
  • Lift-off
  • C изменяемым углом
• Насосы
  • Диффузионный вакуумный насос
  • Турбомолекулярный вакуумный насос
  • Криогенный насос
• Система управления
  • PLC + Сенсорный экран
  • PC/PLC
• Источники
  • Электронная пушка
  • Резистивный источник
  • Резистивный источник с поворотом
  • Магнетроны
  • Ионный источник