Описание
Системы плазмохимического осаждения из газовой фазы NANO-MASTER могут применяться для нанесения высококачественных пленок SiO2, Si3N4, CNT, DLC либо SiC. В зависимости от решаемой задачи в качестве плазменных источников могут применяться РЧ-источники душевого типа, полый катод, источники с индуктивно-связанной плазмой, а также микроволновые источники. Зажимная пластина для подложек позволяет размещать подложки с размером до 8 дюймов с возможностью РЧ-смещения, смещения импульсным постоянным током или постоянным током при резистивном либо инфракрасном нагреве до 800°С.
Благодаря применению турбомолекулярного насоса с производительностью 250 л/сек с механическим насосом с производительностью 0,1415 м3/мин, уровень вакуума в камере может достигать значения 5x10-7 торр. Компьютер с программным обеспечением, разработанным в среде LabView обеспечивает полную автоматизацию всех процессов.
Характеристики
- Кубическая камера из алюминия с размером 13 дюймов либо из нержавеющей стали с размером 14 дюймов;
- Базовое давление 5х10-7 торр благодаря применению турбонасоса;
- Плазменные источники: РЧ-источник душевого типа, полый катод, источник с индуктивно-связанной плазмой, а также микроволновый источник;
- Газовое кольцо для прекурсоров и газов;
- Держатель для подложек: диапазон температуры от 200°C to 800°C, поддержка вращения, смещение с применением РЧ-сигнала, низкочастотного РЧ-сигнала, постоянного тока, а также импульсного постоянного тока;
- Регуляторы массового расхода с электрополированными газовыми линиями и пневматическими запорными клапанами;
- Полная автоматизация процесса под управлением ПК в соответствии с заданной программой;
- Интерфейс пользователя, разработанный в среде LabVIEW;
- Средства аварийного отключения и защитные блокировки.
Опции
- Источник с индуктивно-связанной плазмой для получения плазмы высокой плотности;
- Смещение подложки импульсным постоянным током;
- Смещение с применением сигнала низкой частоты для контроля натяжения пленки;
- Вращающийся держатель подложек для покрытия объемных деталей;
- Автоматическая загрузка/выгрузка;
- Безмасляный насос;
- Барботеры для металлоорганических соединений с подогреваемыми газовыми линиями;
- Газосепараторы для токсичных газов токсичных с функцией мониторинга;
- Определение окончания процесса;
- Различные допирующие вещества (PH3, B2H6).
Область применения
- Герметизация, изоляция;
- Фотонные структуры;
- Алмазоподобные покрытия;
- Углеродные нанотрубки – Устройства памяти;
- Слой поверхностной пассивации – Солнечные панели;
- Графен – Наноэлектроника.