Описание

Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для удаления загрязнений, оксидов и др. составов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и т.д.

Установка V15-G оснащена массовым расходомером газов, PLC-контроллером, что обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность процесса очистки.

Конструкция установки позволяет избежать недостатков процесса плазменной очистки связанных с «эффектом экранирования».

Отличительные особенности:

• Сдвижная дверь
• PLC-контролер
• Сверхточное совмещение по верхней стороне
• Отображение важных параметров всех процессов
• Возможность удалённого контроля
• USB–интерфейс

Области применения:

• Изготовление МЭМС и изделий сверхмалого размера
• Удаление полимеров
• Удаление жертвенных органических слоёв
• Обработка биоактивных компаундов

Опции:

• Вакуумная помпа;
• Озоновая ловушка
• До трех газовых линий
• Экранированная камера
• Клапан управления давлением
• И другие

Технические характеристики

• Размеры рабочей камеры: 250 x 250 x 250мм. 
• Частота генератора: 2,45 ГГц, 100 — 600 Вт
• Подача газа: Одна газовая магистраль с массовым расходомером с магнитным клапаном
• Эл. питание: 380 В, 50 Гц, 1,5 кВт
• Габаритные размеры: 670 x 900 x 1,850 мм