Описание:

Vion Plasma FIB является инструментом, способным проводить точную резку и травление с высокой скоростью. Он обладает возможностью избирательного травления заданных областей образца и химического осаждения материала. Используемый в Vion Plasma FIB источник плазмы обеспечивает 20 – 60 раз более высокие токи пучка, чем традиционные ионные микроскопы с использованием ионов галлия, сохраняя при этом все возможности использования низкого тока пучка. Кроме того, в камере могут быть введены различные газы, оказывающие влияние на взаимодействие пучка с поверхностью образца и вызывающие осаждение материала (изолятора или проводника)..

Области применения:

материаловедение, микроэлектроника, нанотехнологии.

Основные преимущества:

• Повышение производительности по сравнению с ионными микроскопами с использованием ионов галлия: увеличение скорости травления более чем в 20 раз
• Быстрое и точное приготовление срезов позволяет исследовать скрытые дефекты образца
• Широкий диапазон токов пучка для травления и получения изображений
• Использование возможностей химического осаждения для защиты характерных особенностей поверхности

Технические характеристики: